Maska detoksykująca i-TECH

42,00 

5 w magazynie

Wysyłka: do 24 godzin

Opis

Maska detoksykująca i-TECH – Kompleksowa maska antysmogowa dla Twojej skóry.

Nowoczesna, 3-warstwowa maska w płacie niweluje skutki wpływu zanieczyszczeń środowiska oraz promieniowania UV i niebieskiego światła na skórę. Jej bogaty skład substancji aktywnych działa nawilżająco i detoksykująco. Po zastosowaniu maski doświadczysz satysfakcjonującego efektu sauny. Skóra będzie czysta, zrelaksowana i zregenerowana.

Stosowanie: Raz w tygodniu na umytą i stonizowaną skórę. Pozostawić na 20-30 minut.
Pojemność: płat

 

Gotowa do użycia w każdych warunkach – stosuj nawet w podróży!

 

Zastosowanie: Na dzień

Typ skóry: Zmęczona, zestresowana

Problem: Zanieczyszczona, Ochrona przed blue light/smogiem, Przęmęczenie, bezsenność

Dla kogo: Dla niej, Dla niego

Dodatkowe informacje

Producent

Arkana

Składniki aktywne

Hematyt, platyna, peptydy biomimetyczne (Argireline®, SYN-AKE®), kwas hialuronowy, ekstrakty roślinne Centella asiatica, rdestu japońskiego, tarczycy bajkalskiej, zielonej herbaty, lukrecji.

 

INCI

AQUA, BUTYLENE GLYCOL, PROPYLENE GLYCOL, GLYCERETH-26, SODIUM POLYACRYLATE, DIMETHICONE, CYCLOPENTASILOXANE, TRIDECETH-6, PEG/PPG-18/18 DIMETHICONE, CHLORPHENESIN, XANTHAN GUM, PHENOXYETHANOL, IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE, GLYCERIN, CARBOMER, TRIETHANOLAMINE, SODIUM HYALURONATE, SOLUBLE COLLAGEN,
PPG-26-BUTETH-26, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, PARFUM, CENTELLA ASIATICA EXTRACT, POLYGONUM CUSPIDATUM ROOT EXTRACT, SCUTELLARIA BAICALENSIS ROOT EXTRACT, CAMELLIA SINENSIS LEAF EXTRACT, GLYCYRRHIZA GLABRA (LICORICE) ROOT EXTRACT, CHAMOMILLA RECUTITA (MATRICARIA) FLOWER EXTRACT, ROSMARINUS OFFICINALIS (ROSEMARY) LEAF EXTRACT, TROPAEOLUM MAJUS FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT, ACETYL HEXAPEPTIDE-8, CAPRYLYL GLYCOL, ORYZA SATIVA(RICE) LEES EXTRACT, DIPEPTIDE DIAMINOBUTYROYL BENZYLAMIDE DIACETATE, ARBUTIN, HEMATITE EXTRACT, PLATINUM

Opinie

Na razie nie ma opinii o produkcie.

Napisz pierwszą opinię o „Maska detoksykująca i-TECH”

Twój adres email nie zostanie opublikowany. Pola, których wypełnienie jest wymagane, są oznaczone symbolem *